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英飞凌科技高级技术总监、工业与基础设施业务大中华区技术负责人陈立烽深入解析了英飞凌CoolSiC™碳化硅技术的发展路径及其最新一代CoolSiC™ MOSFET G2产品的独特优势。他强调,评价一项技术或产品时,除了关注基本的静态和动态特性外,还需综合考量其可靠性、稳定性和易用性。
英飞凌科技高级技术总监、
工业与基础设施业务大中华区技术负责人 陈立烽
全面评估碳化硅器件性能
在衡量碳化硅器件性能时,陈立烽指出,需要全面考虑多个关键指标,如栅极氧化层的可靠性、体二极管的鲁棒性、驱动电压延展性以及抗短路能力。沟槽栅技术作为提升碳化硅器件性能和可靠性的核心技术之一,英飞凌CoolSiC™ MOSFET采用了非对称沟槽栅结构,通过垂直沟道设计降低导通电阻和开关损耗,并增强栅极氧化层的可靠性。
从设计到封装的全方位推进
英飞凌不仅在器件结构设计上下功夫,还利用.XT封装技术和冷切割工艺来全面提升产品性能。.XT封装技术有效降低了瞬态热阻,提高了芯片性能和寿命;而冷切割技术则提升了晶圆生产效率,确保供应安全。这些努力使得新一代CoolSiC™ MOSFET G2产品在保持高质量和高可靠性的同时,将主要性能指标优化了20%,快速开关能力提高了30%以上。
CoolSiC™ MOSFET G2的应用优势
CoolSiC™ MOSFET G2的最大工作结温提升至200摄氏度,为客户提供了更大的设计灵活性。这使得采用该器件的电动汽车直流快速充电站能够减少10%的功率损耗,同时在不影响外形尺寸的情况下实现更高的充电功率。基于CoolSiC™ MOSFET G2的牵引逆变器可以增加电动汽车的续航里程;而在可再生能源领域,太阳能逆变器可以在保持高功率输出的同时实现更小的尺寸,从而降低成本。
综上所述,英飞凌通过持续的技术创新和全方位的产品优化,正引领着碳化硅技术的发展方向,为光伏、储能、直流电动汽车充电、电机驱动和工业电源等领域的客户带来显著的竞争优势。