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三星电子加速HBM4内存开发,采用4nm工艺提升性能与能效

来源:网络| 发布日期:2025-01-20 14:00:01 浏览量:

近日,据朝鲜日报报道,三星电子的存储业务部门(DS部门)已经完成了HBM4内存逻辑芯片的设计,并交由Foundry业务部采用4nm工艺进行试产。面对在HBM3E市场落后于SK海力士的局面,三星正计划通过采用更先进的工艺技术,以最大限度地提高HBM4的性能和竞争力。

HBM4的关键改进与创新

HBM4相较于前一代产品,在设计和技术上实现了显著的优化和创新。最引人注目的变化之一是其底部逻辑芯片的制造方式。不同于HBM3E仅依赖于内存制造商自身的工艺,HBM4的逻辑芯片将采用代工工艺,这意味着三星需要与逻辑晶圆厂合作,以便支持更多的信号引脚、更大的数据带宽以及客户定制功能。例如,SK海力士已决定采用台积电的5nm工艺来生产HBM4的逻辑芯片,并允许客户集成专有IP,从而增强产品的性能和定制化能力。

HBM4不仅提升了堆叠层数从12层增加到16层,进一步增加了容量和带宽,还在逻辑芯片中集成了系统半导体功能,如低功耗特性等,以更好地满足特定应用场景的需求。此外,针对发热问题——这是HBM技术面临的最大挑战之一,三星电子正在大规模应用4nm工艺,旨在提高整体性能的同时改善散热效果。

三星电子加速HBM4内存开发,采用4nm工艺提升性能与能效

三星电子的策略调整

为了追赶竞争对手并重获市场份额,三星电子调整了其HBM产品的开发策略。除了采用先进的4nm工艺外,三星还计划在其HBM4产品中使用第六代(c)10nm DRAM芯片进行堆叠,而SK海力士目前仍在使用第五代(b)10nm DRAM。随着DRAM工艺的进步,这种转变不仅能缩小尺寸,还能提升性能和能效。

值得注意的是,三星电子正在探索一种新的堆叠方法——混合键合技术,它通过铜直接连接芯片,而非传统的“凸块”方式,这不仅可以减小尺寸,还可以提高性能。同时,三星还采用了“先进的热压非导电粘合膜(TC-NCF)技术”,每次堆叠时都会放置薄膜状材料,最多可以堆叠12层HBM产品。

一位行业专家评论说:“三星电子在代工工艺方面取得了快速进展,”他补充道,“由于之前几代产品落后,我们现在正加紧推进HBM4项目,以更快地响应客户的样品测试和改进建议。”

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